학술대회

번호 성명/학과 논문명 개최기관명 발표일자
13902 최형섭
융합교양학부

[N/A]

재료과학에서 나노기술까지: 학제적 연구 제도의 역사적 기원

성명최형섭

학과융합교양학부

개최기관명지식융합과 미래 과학기술과 사회 연구단

발표일자2011-11-11

지식융합과 미래 과학기술과 사회 연구단 2011-11-11
13901 최형섭
융합교양학부

[N/A]

Circulation of Knowledge in the Second and Third Industrial Revolutions

성명최형섭

학과융합교양학부

개최기관명Business History Conference

발표일자2011-04-02

Business History Conference 2011-04-02
13900 최형섭
융합교양학부

[N/A]

일본의 집적회로 기술 개발과 추격자 전략의 한계

성명최형섭

학과융합교양학부

개최기관명한국과학기술학회

발표일자2011-11-19

한국과학기술학회 2011-11-19
13899 최형섭
융합교양학부

[N/A]

과학기술에서 추격자 전략의 한계: 일본의 반도체 기술개발 사례를 중심으로

성명최형섭

학과융합교양학부

개최기관명전북대학교 과학학과

발표일자2011-10-07

전북대학교 과학학과 2011-10-07
13898 한정환
신소재공학과

[IUMRS-ICEM 2008]

Atomic Layer Deposition of SrTiO3 Thin Films at a High Temperature (370oC)

성명한정환

학과신소재공학과

개최기관명International Union of Materials Research Societies

발표일자2008-07-28

International Union of Materials Research Societies 2008-07-28
13897 한정환
신소재공학과

[Atomic Layer Deposition 2009]

Pulsed chemical vapor deposition of Ruthenium dioxide thin films Using RuO4 precursor for the DRAM capacitor electrode

성명한정환

학과신소재공학과

개최기관명AVS International Conference on Atomic Layer Deposition

발표일자2009-07-19

AVS International Conference on Atomic Layer Deposition 2009-07-19
13896 한정환
신소재공학과

[제15회 한국반도체학술대회]

Enhancement of the Electrical Properties of SrTiO3 Thin Films Grown by Atomic Layer Deposition

성명한정환

학과신소재공학과

개최기관명한국반도체산업협회

발표일자2008-02-20

한국반도체산업협회 2008-02-20
13895 한정환
신소재공학과

[제 16회 한국반도체학술대회]

Improved Growth Behaviors of SrTiO3 Thin Films Using the Optimized Seed Layer deposited by Atomic Layer Deposition

성명한정환

학과신소재공학과

개최기관명한국반도체산업협회

발표일자2009-02-18

한국반도체산업협회 2009-02-18
13894 한정환
신소재공학과

[제 18회 한국 반도체 학술대회]

Controlling initial growth of ALD-SrTiO3 films with interposed ALD-Al2O3 layers

성명한정환

학과신소재공학과

개최기관명한국반도체산업협회

발표일자2011-02-16

한국반도체산업협회 2011-02-16
13893 한정환
신소재공학과

[제19회 반도체학술대회]

Atomic Layer Deposition of SrTiO3 Films with Cp-based Precursors

성명한정환

학과신소재공학과

개최기관명한국반도체산업협회

발표일자2012-02-15

한국반도체산업협회 2012-02-15
13892 한정환
신소재공학과

[1st International Workshop on Resistive RAM]

Deposition behavior of RuO2 electrodes using pulsed CVD for MIM capacitor of ReRAM/DRAM device

성명한정환

학과신소재공학과

개최기관명IMEC

발표일자2011-10-20

IMEC 2011-10-20
13891 한정환
신소재공학과

[제 16회 한국반도체학술대회]

Pulsed-Chemical vapor deposition of Ruthenium thin films Using RuO4 precursor for the DRAM capacitor electrode

성명한정환

학과신소재공학과

개최기관명한국반도체산업협회

발표일자2009-02-18

한국반도체산업협회 2009-02-18