전체 23,406건
| 번호 | 성명/학과 | 논문명 | 개최기관명 | 발표일자 |
|---|---|---|---|---|
| 14694 | 한정환 신소재공학과 |
[ECS transaction] Capacitors with an equivalent oxide thickness of <0.5nm for next generation semiconductor memory 성명한정환 학과신소재공학과 개최기관명ECS(Electrochemical Society) 발표일자2010-10-11 |
ECS(Electrochemical Society) | 2010-10-11 |
| 14693 | 한정환 신소재공학과 |
[ISIF 2010] TiO2 AND Al doped TiO2 films grown by atomic layer deposition for next generation DRAM capacitor 성명한정환 학과신소재공학과 개최기관명Institute of Materials Research and Engineering (IMRE) 발표일자2010-06-13 |
Institute of Materials Research and Engineering (IMRE) | 2010-06-13 |
| 14692 | 한정환 신소재공학과 |
[Atomic Layer Deposition 2010] Investigation on the Growth Initiation of Ru Thin Films by Atomic Layer Deposition 성명한정환 학과신소재공학과 개최기관명AVS International Conference on Atomic Layer Deposition 발표일자2010-06-21 |
AVS International Conference on Atomic Layer Deposition | 2010-06-21 |
| 14691 | 한정환 신소재공학과 |
[Atomic Layer Deposition 2010] Characterization of ALD Al-doped TiO2 films on ultrathin Ru buffered TiN layer for application to sub-30 nm DRAM capacitor 성명한정환 학과신소재공학과 개최기관명AVS International Conference on Atomic Layer Deposition 발표일자2010-06-21 |
AVS International Conference on Atomic Layer Deposition | 2010-06-21 |
| 14690 | 한정환 신소재공학과 |
[제15회 한국반도체학술대회] Fabrication and Characterization of High-k Gd2O3 MIM Capacitors Using ITO Thin Films as Bottom Electrode 성명한정환 학과신소재공학과 개최기관명한국반도체산업협회 발표일자2008-02-20 |
한국반도체산업협회 | 2008-02-20 |
| 14689 | 한정환 신소재공학과 |
[제 5차 강유전체 연합 심포지엄] ALD 방법으로 증착한 TiO2/Ru 박막을 이용한 박막형 다층 세라믹 커패시터(MLCC)의 제조 및 특성 성명한정환 학과신소재공학과 개최기관명강유전체연구회 발표일자2009-02-08 |
강유전체연구회 | 2009-02-08 |
| 14688 | 한정환 신소재공학과 |
[제 17회 한국 반도체 학술대회] Improved growth characteristics of SrTiO3 thin films deposited by Atomic Layer Deposition using Sr(iPr3Cp)2 and Ti(O-iPr)2(thd)2 성명한정환 학과신소재공학과 개최기관명한국반도체산업협회 발표일자2010-02-24 |
한국반도체산업협회 | 2010-02-24 |
| 14687 | 한정환 신소재공학과 |
[INFOS 2011] Electrical properties of TiO2-based MIM capacitors deposited by TiCl4 and TTIP based atomic layer deposition processes 성명한정환 학과신소재공학과 개최기관명IEEE 발표일자2011-06-21 |
IEEE | 2011-06-21 |
| 14686 | 한정환 신소재공학과 |
[ECS transaction] A Mass-production Compatible Capacitor Technology for DRAMs with Design Rule Down to 20nm 성명한정환 학과신소재공학과 개최기관명ECS(Electrochemical Society) 발표일자2009-05-24 |
ECS(Electrochemical Society) | 2009-05-24 |
| 14685 | 한정환 신소재공학과 |
[ECS transaction] Improved Growth Behaviors of SrTiO3 Thin films Using the Optimized Seed Layer deposited by Atomic Layer Deposition 성명한정환 학과신소재공학과 개최기관명ECS(Electrochemical Society) 발표일자2009-05-24 |
ECS(Electrochemical Society) | 2009-05-24 |
| 14684 | 한정환 신소재공학과 |
[Atomic Layer Deposition 2011] initial growth of ALD-SrTiO3 films with interposed ALD-Al2O3 layer 성명한정환 학과신소재공학과 개최기관명AVS International Conference on Atomic Layer Deposition 발표일자2011-06-26 |
AVS International Conference on Atomic Layer Deposition | 2011-06-26 |
| 14683 | 한정환 신소재공학과 |
[EuroCVD 18] Deposition of Ru based electrodes using CVD/ALD for MIM capacitor of next generation DRAM device 성명한정환 학과신소재공학과 개최기관명ECS(Electrochemical Society) 발표일자2011-09-04 |
ECS(Electrochemical Society) | 2011-09-04 |
